p-n结 p-n junctions
一块半导体内部p型区与n型区分界面形成区域。如果在高纯的Si或Ge半导体片的两侧分别掺入五价的杂质(如P、As)和三价的杂质(如Ga、In),那么就得到一侧是n型半导体,另一侧是p型半导体的材料,n型和p型的界面就形成p-n结(如图)。在刚形成p-n结时,由于在n型的一侧有过剩的传导电子,在p型的一侧则有过剩的空穴,故电子将在浓度梯度的驱使下由n型的一侧穿过界面流向p型的一侧,空穴则由p型的一侧向n型的一侧运动。由此很快在界面两边形成很薄的电子(带负电)一空穴(带正电)双电层。双电层产生的电场E由n型的一侧指向p型的一侧,因而阻止传导电子和空穴的继续迁移。因此p-n结又称为阻挡层。由于 ...... (共606字) [阅读本文]>>