(一)电子束热处理工艺特征(表4.3-5)
表4.3-5 电子束热处理工艺特征
方 法特 点高真空电
子束淬火
(见图4.3-2a)①工作室压力为1.33×10-1～1.33×10-4Pa;
②加速电压范围15～175 kV;
③电子散射小，功率密度高，束斑可达20mm×
20 mm;
④单件生产低真空电
子束淬火
(见图4.3-2b)①工作室压力为1.33～13.3 Pa;
②加速电压范围40～150kV;
③电子散射小，功率密度高，束斑尺寸减少;
④适用于批量生产非真空电
子束淬火
(见图4.3-2c)①热处理在空气中进行，过程简化，操作方便;
②加速电压150～175 kV;
③电子束产生散射，工件距电子枪出口距离小于
25 mm
(a)高真空电子束热处理机示意图
(b)低真空电子束热处理机示意图
(c)非真空电子束热处理机示 ...... （共865字） [阅读本文]>>
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